Offset Mask(OffsetMask)
このノードは1つまたは複数のマスクを入力として受け取り、ユーザーが水平および垂直方向のオフセット(x, y)、回転角度(angle)、およびマスクの複製回数(duplication_factor)を指定できるようにします。
Offset Mask
Offset Mask ノードは、1つまたは複数のマスクを入力として受け取り、ユーザーが水平および垂直方向のオフセット(x, y)、回転角度(angle)、およびマスクの複製回数(duplication_factor)を指定できるようにします。
Offset Mask ノードは、マスクを処理および変換するためのツールです。その中核機能は、平行移動、回転、複製などの操作を通じて、入力されたマスクの空間的な位置を調整し、新しいマスクを生成することです。このノードは、画像の局所的な処理領域を精密に制御する必要があるワークフローでの使用に最適です。
ノード機能
このノードは、1つまたは複数のマスクを入力として受け取り、ユーザーが水平および垂直方向のオフセット(x, y)、回転角度(angle)、およびマスクの複製回数(duplication_factor)を指定できるようにします。オフセット後に生じる空白領域を処理するために3種類のエッジパディングモード(padding_mode)をサポートし、より複雑な変換効果を実現するために「ロール」(roll)と「インクリメンタル」(incremental)という2つの特別な処理オプションを提供します。
ノードパラメータ説明 - Offset Mask
入力接続 (Inputs)
| パラメータ名 | データ型 | 必須 | デフォルト値 | 範囲/オプション | 説明 |
|---|---|---|---|---|---|
mask | MASK | はい | - | - | 変換する入力マスクまたはマスクバッチ。 |
コントロールパラメータ (Parameters)
| パラメータ名 | データ型 | 必須 | デフォルト値 | 範囲/オプション | 説明 |
|---|---|---|---|---|---|
padding_mode | COMBO | はい | empty | "empty", "border", "reflection" | オフセット後に生じる空白領域の埋め方。"empty"(空白(ゼロ))、"border"(エッジのピクセルで拡張)、"reflection"(エッジピクセルをミラーリングして反射)から選択。 |
x | INT | はい | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (ステップ: 1) | マスクの水平方向(左右)のオフセット量を設定。正の値は右方向、負の値は左方向にオフセット。範囲は -4096 から MAX_RESOLUTION。 |
y | INT | はい | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (ステップ: 1) | マスクの垂直方向(上下)のオフセット量を設定。正の値は下方向、負の値は上方向にオフセット。範囲は -4096 から MAX_RESOLUTION。 |
angle | INT | はい | 0 | -360 - 360 (ステップ: 1) | マスクの回転角度を度単位で設定。正の値は反時計回り、負の値は時計回りに回転。範囲は -360 から 360。 |
duplication_factor | INT | はい | 1 | 1 - 1000 (ステップ: 1) | 入力マスクを複製する回数を指定し、出力バッチを形成。範囲は 1 から 1000。複数の同一マスクを作成してバッチ処理や後続の差分操作に使用。 |
roll | BOOLEAN | はい | False | - | 有効にすると、マスクのオフセットが境界を超えた場合、超えた部分が反対側から画面に再入し、循環スクロール効果を実現。 |
incremental | BOOLEAN | はい | False | - | 有効にすると、回転角度(angle)がバッチ内の各マスクに対して順次累積され、最初のマスクは angle 度、2番目は 2*angle 度回転する、というように処理される。 |
出力 (Output)
| パラメータ名 | データ型 | 説明 |
|---|---|---|
| mask | MASK | 回転などの変換処理を適用した新しいマスク。 |
使用シナリオ
画像生成や編集のワークフローにおいて、このノードを使用して動的なマスクシーケンスを作成できます。例えば、増加する回転角度(incremental オプションを有効化)と複製係数を設定することで、回転角度が段階的に変化する一連のマスクを生成し、アニメーションフレーム内での物体の回転プロセスを制御したり、同じ領域に異なる角度のエフェクトを適用したりするのに使用できます。
注意事項
大きなオフセット値や回転角度を使用すると、マスクの主要領域がキャンバスの境界外に移動し、有効なマスク領域が小さくなる可能性があることに注意してください。また、duplication_factor パラメータは出力されるマスクのバッチサイズを大幅に増加させるため、大量の複製を処理する際はシステムメモリを考慮する必要があります。
Offset Mask ノードソースコードリンク
Offset Mask ノードは ComfyUI-KJNodes ノードパッケージに含まれています。
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