Offset Mask(OffsetMask)
Este nodo recibe una o más máscaras como entrada y permite al usuario especificar el desplazamiento en las direcciones horizontal y vertical (x, y), el ángulo de rotación (angle) y el número de veces que se duplica la máscara (duplication_factor).
Offset Mask
El nodo Offset Mask recibe una o más máscaras como entrada y permite al usuario especificar el desplazamiento horizontal y vertical (x, y), el ángulo de rotación (angle) y el número de copias de la máscara (duplication_factor).
El nodo Offset Mask es una herramienta para procesar y transformar máscaras. Su función principal es ajustar la posición espacial de la máscara de entrada mediante operaciones como traslación, rotación y duplicación, generando así nuevas máscaras. Este nodo es ideal para flujos de trabajo que requieren un control preciso sobre las áreas de procesamiento local de una imagen.
Funcionalidad del Nodo
Este nodo recibe una o más máscaras como entrada y permite al usuario especificar el desplazamiento horizontal y vertical (x, y), el ángulo de rotación (angle) y el número de copias de la máscara (duplication_factor). Admite tres modos de relleno de bordes (padding_mode) para manejar las áreas en blanco resultantes del desplazamiento, y ofrece dos opciones de procesamiento especial: "roll" (desplazamiento circular) e "incremental" (incremental), para lograr efectos de transformación más complejos.
Explicación de los Parámetros del Nodo - Offset Mask
Entradas (Inputs)
| Nombre del Parámetro | Tipo de Dato | Obligatorio | Valor por Defecto | Rango de Valores/Opciones | Descripción |
|---|---|---|---|---|---|
mask | MASK | Sí | - | - | La máscara de entrada o lote de máscaras a transformar. |
Parámetros de Control (Parameters)
| Nombre del Parámetro | Tipo de Dato | Obligatorio | Valor por Defecto | Rango de Valores/Opciones | Descripción |
|---|---|---|---|---|---|
padding_mode | COMBO | Sí | empty | "empty", "border", "reflection" | "empty": deja el área exterior vacía (cero); "border" (extiende usando píxeles del borde); "reflection" (refleja los píxeles del borde como un espejo). |
x | INT | Sí | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (paso: 1) | Establece el desplazamiento horizontal (izquierda/derecha) de la máscara. Valores positivos desplazan a la derecha, negativos a la izquierda. Rango de -4096 a MAX_RESOLUTION. |
y | INT | Sí | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (paso: 1) | Establece el desplazamiento vertical (arriba/abajo) de la máscara. Valores positivos desplazan hacia abajo, negativos hacia arriba. Rango de -4096 a MAX_RESOLUTION. |
angle | INT | Sí | 0 | -360 - 360 (paso: 1) | Establece el ángulo de rotación de la máscara, en grados. Valores positivos rotan en sentido antihorario, negativos en sentido horario. Rango de -360 a 360. |
duplication_factor | INT | Sí | 1 | 1 - 1000 (paso: 1) | Especifica el número de veces que se copiará la máscara de entrada para formar el lote de salida. Rango de 1 a 1000. Se utiliza para crear múltiples máscaras idénticas para procesamiento por lotes u operaciones diferenciales posteriores. |
roll | BOOLEAN | Sí | False | - | Cuando está habilitado, si la máscara se desplaza más allá del borde, la parte que sobresale vuelve a entrar por el lado opuesto, logrando un efecto de desplazamiento circular. |
incremental | BOOLEAN | Sí | False | - | Cuando está habilitado, el ángulo de rotación (angle) se acumula secuencialmente para cada máscara en el lote. La primera máscara rota angle grados, la segunda rota 2*angle grados, y así sucesivamente. |
Salida (Output)
| Nombre del Parámetro | Tipo de Dato | Descripción |
|---|---|---|
| mask | MASK | La nueva máscara después de aplicar transformaciones como rotación. |
Casos de Uso
En un flujo de trabajo de generación o edición de imágenes, puedes usar este nodo para crear secuencias dinámicas de máscaras. Por ejemplo, configurando un ángulo de rotación incremental (habilitando la opción incremental) y un factor de duplicación, puedes generar una serie de máscaras cuyos ángulos de rotación cambian gradualmente. Esto es útil para controlar el proceso de rotación de un objeto en los fotogramas de una animación, o para aplicar efectos con diferentes ángulos a una misma área.
Consideraciones
Ten en cuenta que al usar valores de desplazamiento o ángulos de rotación grandes, la región principal de la máscara puede salirse de los límites del lienzo, reduciendo el área efectiva de la máscara. Además, el parámetro duplication_factor aumenta significativamente el tamaño del lote de máscaras de salida; considera la memoria del sistema al procesar un gran número de copias.
Enlace al Código Fuente del Nodo Offset Mask
El nodo Offset Mask pertenece al paquete de nodos ComfyUI-KJNodes.
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