Offset Mask(OffsetMask)
Этот узел принимает один или несколько масок в качестве входных данных и позволяет пользователю указать смещение по горизонтали и вертикали (x, y), угол поворота (angle) и количество копий маски (duplication_factor).
Offset Mask
Узел Offset Mask принимает одну или несколько масок на вход и позволяет пользователю задать смещение по горизонтали и вертикали (x, y), угол поворота (angle) и количество копий маски (duplication_factor).
Узел Offset Mask — это инструмент для обработки и трансформации масок (Mask). Его основная функция заключается в пространственной корректировке входных масок посредством таких операций, как смещение, поворот и копирование, для создания новых масок. Этот узел идеально подходит для использования в рабочих процессах, требующих точного контроля над областью локальной обработки изображения.
Функциональность узла
Этот узел принимает одну или несколько масок на вход и позволяет пользователю задать смещение по горизонтали и вертикали (x, y), угол поворота (angle) и количество копий маски (duplication_factor). Он поддерживает три режима заполнения краёв (padding_mode) для обработки пустых областей, возникающих после смещения, и предоставляет две специальные опции обработки — «скроллинг» (roll) и «инкрементальный» (incremental) — для достижения более сложных эффектов трансформации.
Описание параметров узла - Offset Mask
Входные подключения (Inputs)
| Название параметра | Тип данных | Обязательный | Значение по умолчанию | Диапазон значений/Опции | Описание |
|---|---|---|---|---|---|
mask | MASK | Да | - | - | Входная маска или пакет масок для трансформации. |
Параметры управления (Parameters)
| Название параметра | Тип данных | Обязательный | Значение по умолчанию | Диапазон значений/Опции | Описание |
|---|---|---|---|---|---|
padding_mode | COMBO | Да | empty | "empty", "border", "reflection" | «empty»: оставляет внешнюю область пустой (нули); «border» (расширение с использованием пикселей края); «reflection» (зеркальное отражение пикселей края). |
x | INT | Да | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (шаг: 1) | Задаёт смещение маски по горизонтали (влево/вправо). Положительное значение смещает вправо, отрицательное — влево. Диапазон значений от -4096 до MAX_RESOLUTION. |
y | INT | Да | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (шаг: 1) | Задаёт смещение маски по вертикали (вверх/вниз). Положительное значение смещает вниз, отрицательное — вверх. Диапазон значений от -4096 до MAX_RESOLUTION. |
angle | INT | Да | 0 | -360 - 360 (шаг: 1) | Задаёт угол поворота маски в градусах. Положительное значение — поворот против часовой стрелки, отрицательное — по часовой стрелке. Диапазон значений от -360 до 360. |
duplication_factor | INT | Да | 1 | 1 - 1000 (шаг: 1) | Определяет количество копий входной маски для формирования выходной партии. Диапазон значений от 1 до 1000. Используется для создания нескольких одинаковых масок для пакетной обработки или последующих операций с различиями. |
roll | BOOLEAN | Да | False | - | При включении части маски, выходящие за границы при смещении, будут появляться с противоположной стороны, создавая эффект циклического скроллинга. |
incremental | BOOLEAN | Да | False | - | При включении угол поворота (angle) будет последовательно накапливаться для каждой маски в партии: первая маска поворачивается на angle градусов, вторая — на 2*angle градусов и так далее. |
Выходные данные (Output)
| Название параметра | Тип данных | Описание |
|---|---|---|
| mask | MASK | Новая маска после применения трансформаций, таких как поворот. |
Сценарии использования
В рабочем процессе генерации или редактирования изображений этот узел можно использовать для создания динамических последовательностей масок. Например, задав увеличивающийся угол поворота (с включённой опцией incremental) и коэффициент копирования, можно сгенерировать серию масок с постепенно меняющимся углом поворота. Это можно использовать для управления процессом вращения объекта в кадрах анимации или для применения эффектов под разными углами к одной и той же области.
Важные замечания
Обратите внимание, что при использовании больших значений смещения или угла поворота основная область маски может выйти за границы холста, что приведёт к уменьшению эффективной области маски. Кроме того, параметр duplication_factor значительно увеличивает размер выходной партии масок, что требует учёта системной памяти при обработке большого количества копий.
Ссылка на исходный код узла Offset Mask
Узел Offset Mask взят из пакета узлов ComfyUI-KJNodes.
Комментарии
Войдите через GitHub, чтобы участвовать в обсуждении.