Offset Mask(OffsetMask)
이 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아들이며, 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle) 및 마스크 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다.
Offset Mask
Offset Mask 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle), 그리고 마스크의 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다.
Offset Mask 노드는 마스크(Mask)를 처리하고 변환하는 도구입니다. 이 노드의 핵심 기능은 이동, 회전, 복제 등의 작업을 통해 입력된 마스크의 공간적 위치를 조정하여 새로운 마스크를 생성하는 것입니다. 이 노드는 이미지의 특정 부분을 정밀하게 제어해야 하는 워크플로우에서 사용하기에 매우 적합합니다.
노드 기능
이 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle), 그리고 마스크의 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다. 또한 오프셋 후 발생하는 빈 영역을 처리하기 위해 세 가지 가장자리 채우기 모드(padding_mode)를 지원하며, 더 복잡한 변환 효과를 구현하기 위해 "롤(roll)"과 "증분(incremental)"이라는 두 가지 특수 처리 옵션을 제공합니다.
노드 파라미터 설명 - Offset Mask
연결 입력 (Inputs)
| 파라미터 이름 | 데이터 타입 | 필수 | 기본값 | 범위/옵션 | 설명 |
|---|---|---|---|---|---|
mask | MASK | 예 | - | - | 변환 처리할 입력 마스크 또는 마스크 배치입니다. |
컨트롤 파라미터 (Parameters)
| 파라미터 이름 | 데이터 타입 | 필수 | 기본값 | 범위/옵션 | 설명 |
|---|---|---|---|---|---|
padding_mode | COMBO | 예 | empty | "empty", "border", "reflection" | 오프셋 후 생긴 빈 영역을 채우는 방법을 설정합니다. "empty"(비워둠), "border"(가장자리 픽셀로 확장), "reflection"(가장자리 픽셀을 미러링하여 반사) 중 선택할 수 있습니다. |
x | INT | 예 | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (단계: 1) | 마스크의 수평 방향(좌우) 오프셋을 설정합니다. 양수는 오른쪽, 음수는 왼쪽으로 이동하며, 범위는 -4096부터 MAX_RESOLUTION까지입니다. |
y | INT | 예 | 0 | -4096 - MAX_RESOLUTION (단계: 1) | 마스크의 수직 방향(상하) 오프셋을 설정합니다. 양수는 아래쪽, 음수는 위쪽으로 이동하며, 범위는 -4096부터 MAX_RESOLUTION까지입니다. |
angle | INT | 예 | 0 | -360 - 360 (단계: 1) | 마스크의 회전 각도를 도(degree) 단위로 설정합니다. 양수는 반시계 방향, 음수는 시계 방향 회전이며, 범위는 -360부터 360까지입니다. |
duplication_factor | INT | 예 | 1 | 1 - 1000 (단계: 1) | 입력 마스크를 복제할 횟수를 지정하여 출력 배치를 형성합니다. 범위는 1부터 1000까지이며, 동일한 마스크를 여러 개 생성하여 배치 처리하거나 후속 차등 작업에 사용합니다. |
roll | BOOLEAN | 예 | False | - | 활성화하면, 마스크가 경계를 벗어나 이동할 때 벗어난 부분이 반대쪽에서 다시 나타나 순환 롤링 효과를 구현합니다. |
incremental | BOOLEAN | 예 | False | - | 활성화하면, 회전 각도(angle)가 배치 내 각 마스크에 대해 순차적으로 누적 적용됩니다. 첫 번째 마스크는 angle도, 두 번째는 2*angle도 회전하는 식입니다. |
출력 (Output)
| 파라미터 이름 | 데이터 타입 | 설명 |
|---|---|---|
| mask | MASK | 이동, 회전 등 변환 처리된 새로운 마스크입니다. |
사용 시나리오
이미지 생성 또는 편집 워크플로우에서 이 노드를 사용하여 동적인 마스크 시퀀스를 생성할 수 있습니다. 예를 들어, 점진적으로 증가하는 회전 각도(incremental 옵션 활성화)와 복제 인자를 설정하면, 회전 각도가 단계적으로 변화하는 일련의 마스크를 생성할 수 있습니다. 이는 애니메이션 프레임에서 물체의 회전 과정을 제어하거나, 동일 영역에 서로 다른 각도의 특수 효과를 적용하는 데 사용될 수 있습니다.
주의사항
큰 오프셋 값이나 회전 각도를 사용할 경우, 마스크의 주요 영역이 캔버스 경계를 벗어나 유효 마스크 영역이 작아질 수 있습니다. 또한, duplication_factor 파라미터는 출력 마스크 배치 크기를 크게 증가시킬 수 있으므로, 대량 복제를 처리할 때는 시스템 메모리를 고려해야 합니다.
Offset Mask 노드 소스 코드 링크
Offset Mask 노드는 ComfyUI-KJNodes 노드 패키지에서 제공됩니다.
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