KJNodes/maskinggenerated

Offset Mask(OffsetMask)

이 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아들이며, 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle) 및 마스크 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다.

Offset Mask

mask
mask
x
INT
y
INT
angle
0
duplication_factor
1
roll
incremental
padding_mode
empty
KJNodes

Offset Mask 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle), 그리고 마스크의 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다.

Offset Mask 노드는 마스크(Mask)를 처리하고 변환하는 도구입니다. 이 노드의 핵심 기능은 이동, 회전, 복제 등의 작업을 통해 입력된 마스크의 공간적 위치를 조정하여 새로운 마스크를 생성하는 것입니다. 이 노드는 이미지의 특정 부분을 정밀하게 제어해야 하는 워크플로우에서 사용하기에 매우 적합합니다.

노드 기능

이 노드는 하나 이상의 마스크를 입력으로 받아 사용자가 수평 및 수직 방향의 오프셋(x, y), 회전 각도(angle), 그리고 마스크의 복제 횟수(duplication_factor)를 지정할 수 있도록 합니다. 또한 오프셋 후 발생하는 빈 영역을 처리하기 위해 세 가지 가장자리 채우기 모드(padding_mode)를 지원하며, 더 복잡한 변환 효과를 구현하기 위해 "롤(roll)"과 "증분(incremental)"이라는 두 가지 특수 처리 옵션을 제공합니다.

노드 파라미터 설명 - Offset Mask

연결 입력 (Inputs)

파라미터 이름데이터 타입필수기본값범위/옵션설명
maskMASK--변환 처리할 입력 마스크 또는 마스크 배치입니다.

컨트롤 파라미터 (Parameters)

파라미터 이름데이터 타입필수기본값범위/옵션설명
padding_modeCOMBOempty"empty", "border", "reflection"오프셋 후 생긴 빈 영역을 채우는 방법을 설정합니다. "empty"(비워둠), "border"(가장자리 픽셀로 확장), "reflection"(가장자리 픽셀을 미러링하여 반사) 중 선택할 수 있습니다.
xINT0-4096 - MAX_RESOLUTION (단계: 1)마스크의 수평 방향(좌우) 오프셋을 설정합니다. 양수는 오른쪽, 음수는 왼쪽으로 이동하며, 범위는 -4096부터 MAX_RESOLUTION까지입니다.
yINT0-4096 - MAX_RESOLUTION (단계: 1)마스크의 수직 방향(상하) 오프셋을 설정합니다. 양수는 아래쪽, 음수는 위쪽으로 이동하며, 범위는 -4096부터 MAX_RESOLUTION까지입니다.
angleINT0-360 - 360 (단계: 1)마스크의 회전 각도를 도(degree) 단위로 설정합니다. 양수는 반시계 방향, 음수는 시계 방향 회전이며, 범위는 -360부터 360까지입니다.
duplication_factorINT11 - 1000 (단계: 1)입력 마스크를 복제할 횟수를 지정하여 출력 배치를 형성합니다. 범위는 1부터 1000까지이며, 동일한 마스크를 여러 개 생성하여 배치 처리하거나 후속 차등 작업에 사용합니다.
rollBOOLEANFalse-활성화하면, 마스크가 경계를 벗어나 이동할 때 벗어난 부분이 반대쪽에서 다시 나타나 순환 롤링 효과를 구현합니다.
incrementalBOOLEANFalse-활성화하면, 회전 각도(angle)가 배치 내 각 마스크에 대해 순차적으로 누적 적용됩니다. 첫 번째 마스크는 angle도, 두 번째는 2*angle도 회전하는 식입니다.

출력 (Output)

파라미터 이름데이터 타입설명
maskMASK이동, 회전 등 변환 처리된 새로운 마스크입니다.

사용 시나리오

이미지 생성 또는 편집 워크플로우에서 이 노드를 사용하여 동적인 마스크 시퀀스를 생성할 수 있습니다. 예를 들어, 점진적으로 증가하는 회전 각도(incremental 옵션 활성화)와 복제 인자를 설정하면, 회전 각도가 단계적으로 변화하는 일련의 마스크를 생성할 수 있습니다. 이는 애니메이션 프레임에서 물체의 회전 과정을 제어하거나, 동일 영역에 서로 다른 각도의 특수 효과를 적용하는 데 사용될 수 있습니다.

주의사항

큰 오프셋 값이나 회전 각도를 사용할 경우, 마스크의 주요 영역이 캔버스 경계를 벗어나 유효 마스크 영역이 작아질 수 있습니다. 또한, duplication_factor 파라미터는 출력 마스크 배치 크기를 크게 증가시킬 수 있으므로, 대량 복제를 처리할 때는 시스템 메모리를 고려해야 합니다.

Offset Mask 노드 소스 코드 링크

Offset Mask 노드는 ComfyUI-KJNodes 노드 패키지에서 제공됩니다.

댓글

GitHub로 로그인하고 토론에 참여하세요.

댓글을 불러오는 중…