Easy Apply PuLID(高级)节点(applyPulIDADV)
Easy Apply PuLID(高级)节点将 PuLID 面部身份条件应用于 diffusion 模型。它是标准 Easy Apply PuLID 节点的高级变体,增加了身份投影、保真度、噪波、调度以及可选的注意力遮罩等额外控制。 - model(MODEL,必填):接收 PuLID 身份注入的基础 diffusion 模型。
apply Pul IDADV
描述
**Easy Apply PuLID(高级)**节点将 PuLID 面部身份条件应用于 diffusion 模型。它是标准 Easy Apply PuLID 节点的高级变体,增加了身份投影、保真度、噪波、调度以及可选的注意力遮罩等额外控制。
输入
-
model(
MODEL,必填):接收 PuLID 身份注入的基础 diffusion 模型。 -
pulid_file(
COMBO,必填):选择用于编码输入身份的 PuLID 模型文件。 -
insightface(
COMBO,必填):用于面部检测和识别的后端。选项:CPU、CUDA、ROCM。 -
image(
IMAGE,必填):包含要应用的面部身份的来源图像。 -
weight(
FLOAT,默认1.0,范围-1.0至5.0):身份注入的强度。较高的值会增强效果,较低的值会减弱效果,负面值则会使结果远离所提供的身份。 -
projection(
COMBO,默认ortho_v2):用于身份 embedding 的投影。ortho_v2是默认值,ortho是上一个正交投影,none则禁用投影。 -
fidelity(
INT,默认8,范围0至32):控制注入的面部保留输入身份的忠实程度。较高的值通常会提高身份相似度。 -
noise(
FLOAT,默认0.0,范围-1.0至1.0):向身份 embedding 添加噪波。这可用于在保持相同身份的同时增加变化。 -
start_at(
FLOAT,默认0.0,范围0.0至1.0):PuLID 应用开始时的 denoise 步骤比例。 -
end_at(
FLOAT,默认1.0,范围0.0至1.0):PuLID 应用结束时的 denoise 步骤比例。 -
attn_mask(
MASK,可选):一个可选的注意力遮罩,用于将 PuLID 注入限制在特定的图像区域。
输出
无:更新后的源代码未定义任何输出端口。PuLID 应用在所提供的 model 上执行;此版本中未暴露单独的 MODEL 输出。
使用说明
- 在 denoise 调度的
start_at和end_at之间应用 PuLID。使用默认值时,它会在整个采样过程中保持生效。 - 要仅在采样的后期注入身份,请将
start_at设置为高于0.0。要在最终步骤之前停止应用,请将end_at设置为低于1.0。 insightface后端应与您的运行时匹配:NVIDIA GPU 使用CUDA,AMD GPU 使用ROCM,纯 CPU 运行使用CPU。- 较高的
fidelity值通常会产生更强的身份保留效果,而较低的值则允许在表情、姿态和风格上获得更大的灵活性。 weight与fidelity相互作用:同时增加两者可以产生更强的身份锁定,而减少其中一个或两者则赋予模型更多自由。- 使用
projection = "none"会跳过正交投影,这可能有助于比较原始身份 embedding 行为。 - 提供
attn_mask时,身份注入会局限于遮罩区域,而不是全局应用。
评论
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